[负责说服攻克9nm光刻技术项目
甘教授
，今天被说‘蓝河？没听说过。’，还被问‘这
厉害？那，有谁看得上你们，跟你们达成合作？’，哑口无言。]
[现在，知道怎回答
：）]
以上说话人是林成建，而他这番话启发群里其他人，大伙沉默少许，排队似发同
句话[也知道怎做]。
陈惊璆很晚才看到这些消息，他私问盛明安：[谈成？]
盛明安：[没有。]
沈问冰点头。
krf技术还未解决就跳到arf不仅难度成倍增加，项目通过率估计也悬。
送走盛明安，沈问冰个人留在办公室里看他留下资料。
资料准备齐全，看得出蓝河野心和计划。
盛明安回酒店，在群里发言：[arf光刻胶项目可行。]
是空手套白狼那套，全国各个科研项目问遍，套齐，造成光刻机，最后变成你们蓝河东西。”
盛明安淡声说：“您放心，蓝河负责最难光源系统。”
沈问冰闻言震，略显犹豫：“asml、尼康和佳能目前同时研发16纳米制程极紫外光刻机，不定会是asml家独大。”
盛明安：“从第四代arf光刻机诞生，尼康和佳能差距就已经出来。”
第四代光刻机之前，市场属于尼康和佳能，连美国半导体产业都被日本牵制。但自从尼康和佳能拒绝并错过浸润式光刻技术，而阿斯麦尔捡漏并成功逆袭至今，明显差距拉开。
陈惊璆将群里发言截图发过去，附言：[？]
[……你骗他们？]
[怎能说是骗？]盛明安云淡风轻：[这叫语言艺术。]
平静研发部群聊立即沸腾：[！！立项吗？！]
[盛神超牛逼！]
[国内技术还停在krf光刻胶项目研发中吧？大步跳跃到arf光刻胶没问题吗？]
[arf光刻胶可用于193纳米光刻，极限应该是7纳米，如果是高阶光刻机，arf光刻胶不可或缺。]
[千言万语汇成句盛神爱你（红心）。]
“美帝不会坐视尼康壮大。”
这是实话。
美国早对日本掌握先进高阶光刻机技术不满，以前隐忍不发是无可替代，现在有asml，日本尼康和佳能就可随意踩死，因此这些年不断对日采取芯片关税增加和罚款等政治措施进行打压。
沈问冰：“需要时间考虑。”
盛明安：“您考虑清楚。”他盯着沈问冰眼睛说：“这段时间会留在甬城，您有疑问尽可以找。”
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