华国国际半导体技术大会是华国电子商会（cecc）和国际半导体设备与材料协会（semi）共同合作举办
，华国最全面、最大
个半导体技术大会，会议讨论内容涵盖半导体设备和技术方方面面，受邀人员有国内外知名半导体技术人才和专家。
大会共有两个主要环节，是颁奖会，二是半导体技术相关主题演讲，由来自设备、集成设计、光刻和材料等方面专家进行演讲，分享他们最新技术。
该技术大会如期到来，而今年参赛者比往年多出整整两倍，在线观看人数超过往年三四倍，令得知数据主办方也惊讶不已。
他们不知道是所有人关注cstic原因是蓝河科技日前在围脖官网发布博文：蓝河科技工程师将于cstic公开演讲13.5nm光源系统设备技
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约定十日之期很快到来，几个半导体龙头企业里实权人物联系曹书记，询问他解决之法是什
。
曹书记含蓄邀请他们参加下周华国国际半导体技术大会。
众人：“？？”
曹书记：“解救鸿芯骗局，使津市半导体产业起死回生办法就在国际半导体技术大会！”
但凡稍微深入点学术问题都绝对不可能百度出来，何况是根本没有人能够回答光源优化！
研究生知道求不到答案，他就是被这问题烦
将近个月，烦到发疯罢。
努力平心静气研究生正要x掉网页，抬头看却瞥见底下有行字，猛地转回去看：“13.5nm光源系统设备技术被攻破？专利申请？——卧槽槽槽！！开玩笑吧？”
他赶紧点开网页，发现是天眼察，专利发明者第个名字是……盛明安？
“盛、盛神？”
他就把头剖下来送他当球踢。
【兄弟，别捣乱，
认真求问。】
那人也很诚恳：【兄弟，别捣乱，你看你是认真问吗？】
研究生抬头看他标题，【求问14nm极紫外光刻机光源系统优化怎实现？】。
就，没毛病啊。
众人都不是蠢货，很快通过联想猜出技术大会很可能会颁布某项足以将津市半导体产业拉出泥淖技术。
但那该是什样技术才能做到？除非是——
堪比euv高阶光刻机！
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六月下旬，华国国际半导体技术大会（cstic）在申市国际会议中心召开。
专利研究单位是蓝河科技，不是什光机所、光电所，而是名不见经传科技公司！
研究生赶紧登陆国知网搜索关键字，真看到13.5nm光源系统设备技术被攻破专利申请！
“卧槽……比asml还高0.5nm，盛神牛逼。”
研究生回头看向电子发烧友论坛，露出空虚笑容，拿起手机，重新开贴、编辑文字，上传国知网图片，发送。
然后面带微笑，安静等待即将炸锅网络。
【兄弟，你真觉得自己问题没毛病？asml14nmeuv刚官宣没多久，你觉得你能在国内不知名论坛里求到答案？】
“……”
研究生嘀咕句：“说不定呢。”
研究生还真傻逼兮兮跑去百度。
回车键按，连他都忍不住捧腹大笑，他果然是被导师布置课题整神经，居然跑去百度！
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