-VI-Incorporated-Expands-Manufacturing-Capacity-of-Diamond-Windows-for-TRUMPF-High-Power-CO2-Lasers-in-EUV-Lithography.html。每
步都需要创新。激光室中
特殊气体必须保持恒定密度。锡滴本身能够反射光，反射光有可能进入激光系统形成干扰。为
防止这种情况出现，激光系统需要特殊光学部件。通快需要工业钻石来提供激光离开腔室“窗口”，必须与合作伙伴合作开发新超纯钻石。通快花十年时间来应对这些挑战，生产出功率和可靠性都足够激光器。每台光源需要整整457329个部件。
在西盟和通快找到种方法来轰击锡并使其发出足够强EUV后，下步是制作反射镜，收集光并将其指向硅芯片。制造世界上最先进光学系统德国公司蔡司自珀金埃尔默和GCA成立以来，就为光刻系统制造反射镜和透镜。但过去使用光学部件与EUV所需光学部件之间差异，大约与莱思罗普灯泡和西盟锡滴喷射系统之间差异样巨大。
C.蒙特卡姆（C.Montcalm），《极紫外线光刻多层反射涂层》（MultilayerRelectiveCoatingsforExtreme-UltravioletLithography），能源部科学技术信息办公室，1998年3月10日，高尔夫球”》（InterviewwithDr.PeterKurz:“HittingaGolfBallontheMoon”），《光子学世界》（WorldofPhotonics），微芯片开辟新天地》（ZEISS:BreakingNewGroundfortheMicrochipsofTomorrow），蔡司集团，YouTube视频，2019年8月2日，
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