www.youtube.com/watch?v=XeDCrlxBtTw。蔡司面临
主要挑战是EUV难以反射。13.5纳米波长EUV更接近X射线而不是可见光。与X射线
样，许多材料吸收EUV，而不是反射EUV。蔡司开始开发由100层交替钼和硅制成反射镜，每层厚度为几纳米。劳伦斯·利弗莫尔国家实验室研究人员在1998年发表篇论文中确定
这是目前最佳EUV反射镜。但是，制造这样个具有纳米级精度反射镜被证明几乎是不可能。最终，蔡司创造有史以来最光滑镜子，其中缺陷小到几乎难以察觉。蔡司表示，如果EUV光刻系统中镜子按比例放大到德国面积大小，它们最大不平整度是十分之毫米。为精确地引导EUV，EUV光刻系统中镜子必须保持完全静止，这需要机械和传感器高度精确，以至蔡司宣称其可以让激光击中月球上高尔夫球。
《负责任供应链：为高科技行业设置更高标准》（ResponsibleSupplyChain:SettingtheBarHigherfortheHigh-TechIndustry），阿斯麦，阿斯麦EUV光刻业务。对于他来说，EUV光刻系统最关键投资不是某个单部件，而是公司供应链管理技能。范霍特解释道，阿斯麦“像机器样”设计这个商业关系网络，产生个由数千家公司组成能够满足阿斯麦严格要求精细协调系统。他估计，阿斯麦本身只生产EUV光刻机部件15%，其余部分是从其他公司购买。这使得阿斯麦可以获得世界上最精细产品，但它需要不断地监控。
新闻稿：《蔡司和阿斯麦将在21世纪20年代初加强下代EUV光刻合作关系》（PressRelease:ZEISSandASMLStrengthenPartnershipforNextGenerationofEUVLithographyDueinEarly2020s），阿斯麦，2016年11月3日，
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