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39 EUV光刻机(5 / 6)

-asmlstrengthen-partnership-for-next-generation-of-euv-lithography。采访阿斯麦供应商高管,2021年。阿斯麦别无选择,只能依靠单来源获得EUV光刻系统关键部件。为管理这点,阿斯麦深入解其供应商源头,以解风险。阿斯麦以投资形式回报某些供应商,比如2016年支付给蔡司10亿美元,为蔡司研发提供资金。这样,所有供应商都达到严格标准。阿斯麦首席执行官彼得·温宁克(PeterWennink)告诉家供应商:“如果你不守规矩,们就会把你买下来。”这并不是个玩笑:阿斯麦最终买下包括西盟在内几家供应商,因为阿斯麦认为自己可以更好地管理它们。

伊戈尔·弗门科夫等,《批量制造EUV光源:技术、性能和功率放大》(LightSourcesforHigh-VolumeManufacturingEUVLithography:Technology,Performance,andPowerScaling),《先进光学技术》(AdvancedOpticalTechnologies),第6卷,第3-4期,2017年6月8日。结果,台拥有数十万个部件机器,花费数百亿美元和几十年时间来研发。奇迹不仅仅在于EUV光刻技术成功,还在于EUV光刻技术能够以足够可靠成本生产芯片。极端可靠性对于EUV光刻系统中任何部件都至关重要。阿斯麦为每个部件设定个平均使用时间至少为3万小时目标——大约四年后才需要维修。实际上,这些部件需要频繁地进行维修,因为每个部件不是同时失效。每台EUV光刻机成本超过1亿美元,因此如果每台机器离线小时,芯片制造商就会损失数千美元。

这里对计算光刻描述借鉴吉姆·凯勒,《摩尔定律没有死》(Moore'sLawIsNotDead),加州大学伯克利分校电子工程和计算机科学系活动,YouTube视频,2019年9月18日,https://www.youtube.com/watch?v=oIG9ztQw2Gc。EUV光刻机之所以能够工作,部分原因归功于软件。例如,阿斯麦使用预测性维护算法来预计部件何时需要在损坏之前更换。阿斯麦还使用种叫作计算光刻软件来更精确地打印图案。光与光刻胶产生化学反应原子级不可预测性给EUV带来问题,而这在更大波长光刻技术中几乎不存在。为调整光线折射方式异常,阿斯麦工具以不同于芯片制造商希望印在芯片上图案投射光线。要想形成图形“X”,阿斯麦需要使用形状非常不同图案,但当光到达硅晶圆后,最终会产生“X”。

作为最终产品,芯片之所以能够可靠地工作,是因为它只有个部件——块覆盖着其他金属

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